Формирование элементов микросхем или как Intel освоил 7 нм

Микроэлектроника – область наиболее массового применения нанотехнологий на сегодняшний день. Рабочие элементы современных микросхем имеют размеры в десятки и даже единицы нанометров. Однако в качестве инструмента формирования этих элементов используется излучение с длиной волны не менее 193 нм. Таким образом задача формирования таких структур сродни «подковать блоху при помощи кувалды».

Из видео вебинара вы узнаете о:

• техниках, позволивших таким компаниям, как Samsung и Intel, освоить производство микросхем с размерами элементов до 7 нм
• ограничениях технологии и креативных решениях, позволяющих эти ограничения преодолевать
• текущем уровне отечественных технологий и ближайших перспективах их развития