Формирование элементов микросхем или как Intel освоил 7 нм
О мероприятии

Микроэлектроника – область наиболее массового применения нанотехнологий на сегодняшний день. Рабочие элементы современных микросхем имеют размеры в десятки и даже единицы нанометров. Однако в качестве инструмента формирования этих элементов используется излучение с длиной волны не менее 193 нм. Таким образом задача формирования таких структур сродни «подковать блоху при помощи кувалды».

Из видео вебинара вы узнаете о:

  • техниках, позволивших таким компаниям, как Samsung и Intel, освоить производство микросхем с размерами элементов до 7 нм
  • ограничениях технологии и креативных решениях, позволяющих эти ограничения преодолевать
  • текущем уровне отечественных технологий и ближайших перспективах их развития


МАТЕРИАЛЫ
АУДИТОРИЯ
  • Студенты и выпускники технических вузов
  • Сотрудники предприятий микроэлектронной промышленности
СПИКЕРЫ
КУЗОВКОВ

АЛЕКСЕЙ ВАЛЕРЬЕВИЧ

Ведущий инженер-конструктор АО НИИМЭ

СТРАНИЦА АВТОРА