Технология нанолитографии
500
250
Срок доступа 60 дней
Описание курса

Курс предназначен для самоподготовки в формате e-learning специалистов наноиндустрии, относящихся к категории инженер – технолог, в целях последующего прохождения оценки и сертификации квалификаций в рамках профессионального стандарта «Производство наноразмерных полупроводниковых приборов и интегральных схем с использованием нанотехнологий» по разделу "Технология нанолитографии".

Курс содержит 10 видеолекций, тестирования для самопроверки усвоения материала, проектное задание и 4 лабораторных работы:

  • проведение процесса нанесения слоя фоторезиста на поверхность кремниевой пластины методом центрифугирования;
  • проведение процесса формирования фоторезистивной защитной маски с требуемой топологией и размерами элементов под заданный функциональный слой интегральной структуры на кремниевой пластине;
  • исследование процесса формирования топологического рисунка в функциональном слое методом реактивного ионного травления. Изучение теоретических сведений и практических демонстрационных видеоматериалов;
  • исследование процесса формирования топологического рисунка в функциональном слое методом реактивного ионного травления. Изучение теоретических сведений и практических демонстрационных видеоматериалов;
  • технология наноимпринт литографии.
Содержание курса
1
Основные определения, роль и место процессов нанолитографии в технологических маршрутах производства интегральных приборов, схем и систем с нанометровыми топологическими нормами
2
Основные виды процессов нанолитографии, используемых в процессе производства интегральных приборов, схем и систем с субстананометровыми топологическими нормами
3
Основные физические и химические принципы и ограничения, лежащие в основе техники (технологии и процессов) оптической нанолитографии. Состав и основные принципы построения комплекса современного оборудования оптической нанолитографии
4
Основные физические и химические принципы и ограничения, лежащие в основе техники (технологии и процессов) наноимпринт литографии. Состав и основные принципы построения комплекса современного оборудования наноимпринт литографии
5
Тенденции развития процессов нанолитографии для производства интегральных приборов, схем и систем с субстананометровыми топологическими нормами
6
Оборудование оптической нанолитографии и наноимпринт литографии, его операционные параметры и конструкционно-технологические характеристики
7
Комплектующие изделия и материалы, используемые в оборудовании и технологии (технике) оптической нанолитографии и наноимпринт литографии, и принципы выработки требований к ним
8
Принципы отработки режимов процессов оптической нанолитографии и наноимпринт литографии
9
Методы и оборудование контроля дефектов в процессах оптической нанолитографии и наноимпринт литографии
10
Тенденции развития процессов нанолитографии для производства интегральных приборов, схем и систем с субстананометровыми топологическими нормами
ПОДЕЛИТЬСЯ В СОЦИАЛЬНЫХ СЕТЯХ
автор курса
КИРЕЕВ

В.Ю

По окончании курса вы сможете
ПОДЕЛИТЬСЯ В СОЦИАЛЬНЫХ СЕТЯХ
Для кого этот курс
специалисты наноиндустрии, относящиеся к категории инженер-технолог
ПОДЕЛИТЬСЯ В СОЦИАЛЬНЫХ СЕТЯХ
Отзывы
Отзывов пока нет
Авторизуйтесь, чтобы оставить отзыв
ПОДЕЛИТЬСЯ В СОЦИАЛЬНЫХ СЕТЯХ
Выдаем документ об окончании