Проектирование фотошаблонов для производства наносистем

В курсе изложены технология проектирования и изготовления фотошаблонов с использованием САПР Cadence MaskCompose, Synopsys CATS, Mentor Graphics Calibre, показаны методы коррекции оптических эффектов, возникающих при экспонировании фотошаблонов суб- и нанометрового диапазона, даны практические занятия по дизайну фотошаблонов и подготовке управляющей информации для их изготовления.

В основе курса лежит разработанный авторами профессиональный стандарт «Инженер-проектировщик фотошаблонов для производства наносистем», утвержденный Минтрудом в 2014 году. В курсе рассмотрены процессы и проблемы формирования изображений сверхмалых размеров, алгоритмы и методы хранения и обработки информации для изготовления фотошаблонов, предложены практические занятия по коррекции оптических эффектов для подавления искажений, вызванных дифракционными явлениями, средствами специализированных программных платформ. Также перечислены мероприятия по увеличению выхода годных при изготовлении фотошаблонов и мероприятия по аттестации фотошаблонов, проведение которых позволяет гарантировать качество изготовленного фотошаблона и соответствие его проектным данным.