Проектирование фотошаблонов для производства наносистем
1 000
500
Срок доступа 60 дней
Описание курса

В курсе изложены технология проектирования и изготовления фотошаблонов с использованием САПР Cadence MaskCompose, Synopsys CATS, Mentor Graphics Calibre, показаны методы коррекции оптических эффектов, возникающих при экспонировании фотошаблонов суб- и нанометрового диапазона, даны практические занятия по дизайну фотошаблонов и подготовке управляющей информации для их изготовления.

В основе курса лежит разработанный авторами профессиональный стандарт «Инженер-проектировщик фотошаблонов для производства наносистем», утвержденный Минтрудом в 2014 году. В курсе рассмотрены процессы и проблемы формирования изображений сверхмалых размеров, алгоритмы и методы хранения и обработки информации для изготовления фотошаблонов, предложены практические занятия по коррекции оптических эффектов для подавления искажений, вызванных дифракционными явлениями, средствами специализированных программных платформ. Также перечислены мероприятия по увеличению выхода годных при изготовлении фотошаблонов и мероприятия по аттестации фотошаблонов, проведение которых позволяет гарантировать качество изготовленного фотошаблона и соответствие его проектным данным. 

Пройти профессиональный экзамен и подтвердить уровень своей квалификации вы можете в Центре оценки квалификаций в наноиндустрии.


ПОДЕЛИТЬСЯ В СОЦИАЛЬНЫХ СЕТЯХ
автор курса
КОНОНОВ

А.Н.

КОНОНОВ

Н.А.

КОНОНОВА

В.А.

МИЛЕНЬКИЙ

Д.М.

АВАКОВ

С.М.

ТРАПАШКО

А.Г.

КИРЕЕВ

В.А.

ГЛЕБОВ

А.Л.

ОВЧИННИКОВ

В.А.

По окончании курса вы сможете
использовать и правильно (эффективно) комбинировать алгоритмы и программы для оптимального проектирования фотошаблонов;
проводить коррекцию оптической близости, основанную на математических моделях, наборе правил проектирования, с учетом вариации процесса;
осуществлять калибровку модели литографического процесса;
проводить конвертацию топологических данных во внутренний формат оборудования;
создавать служебные элементы фотошаблонов: метки совмещения, мультипликации, штрих-код, текстовые метки;
применять методологию контроля линейных размеров топологических элементов;
автоматизировать этапы разработки, запуска и анализа результатов тестов;
проводить сборку готового фотошаблона: подключать баркод, проверять метки совмещения, метки контроля, тестовые структуры, топологию;
осуществлять конвертацию управляющей информации в формат литографического оборудования;
читать и применять технические нормативные документы (маршрутные и технологические карты, внутренние регламенты организации);
проводить анализ топологии фотошаблонов применительно к технологии их изготовления и используемому технологическому оборудованию;
осуществлять перевод данных в управляющую информацию для лазерного или электронно-лучевого генератора изображений, установок контроля критических размеров, аттестации на дефектность;
создавать тестовые фотошаблоны для построения математической модели.
ПОДЕЛИТЬСЯ В СОЦИАЛЬНЫХ СЕТЯХ
Для кого этот курс
специалисты по проектированию и изготовлению фотошаблонов суб- и нанометрового уровня технологии
аспиранты и студенты соответствующего профиля
ПОДЕЛИТЬСЯ В СОЦИАЛЬНЫХ СЕТЯХ
Отзывы
Отзывов пока нет
Авторизуйтесь, чтобы оставить отзыв
ПОДЕЛИТЬСЯ В СОЦИАЛЬНЫХ СЕТЯХ
Выдаем документ об окончании