eNANO открыла запись на новый электронный курс по профессиональным стандартам в наноиндустрии.

Курс предназначен для специалистов по проектированию и изготовлению фотошаблонов суб- и нанометрового уровня технологии, аспирантов и студентов соответствующего профиля. В курсе изложены технология проектирования и изготовления фотошаблонов с использованием САПР Cadence MaskCompose, Synopsys CATS, Mentor Graphics Calibre, показаны методы коррекции оптических эффектов, возникающих при экспонировании фотошаблонов суб- и нанометрового диапазона, даны практические занятия по дизайну фотошаблонов и подготовке управляющей информации для их изготовления.

Изучение курса - необходимый шаг в освоении планарных технологий современной наноэлектроники, гарантирующий сведение к минимуму затрат для государственных заказчиков и промышленности, и обеспечивающий быстрый (2-3 года) выход конкурентоспособной отечественной микроэлектроники на мировой рынок.

Онлайн продукт удобный и полезный как для повышающих свою квалификацию разработчиков СБИС, так и для обучающихся в профильных институтах студентов. Курс составлен с участием специалистов мировых компаний-разработчиков САПР — Cadence, Synopsys и Mentor Graphics.

В основе курса лежит разработанный авторами профессиональный стандарт «Инженер-проектировщик фотошаблонов для производства наносистем», утвержденный Минтрудом в 2014 году.

Стоимость: 1525 руб. Слушатель получает Электронный сертификат в случае успешного прохождения итогового тестирования.

Срок доступа к курсу: 60 дней.

Подробнее о курсе и регистрация