Формирование элементов микросхем или как Intel освоил 7 нм
О мероприятии
Микроэлектроника – область наиболее массового применения нанотехнологий на сегодняшний день. Рабочие элементы современных микросхем имеют размеры в десятки и даже единицы нанометров. Однако в качестве инструмента формирования этих элементов используется излучение с длиной волны не менее 193 нм. Таким образом задача формирования таких структур сродни «подковать блоху при помощи кувалды».
Из видео вебинара вы узнаете о:
- техниках, позволивших таким компаниям, как Samsung и Intel, освоить производство микросхем с размерами элементов до 7 нм
- ограничениях технологии и креативных решениях, позволяющих эти ограничения преодолевать
- текущем уровне отечественных технологий и ближайших перспективах их развития
МАТЕРИАЛЫ
АУДИТОРИЯ
- Студенты и выпускники технических вузов
- Сотрудники предприятий микроэлектронной промышленности
СПИКЕРЫ